嘉興GMP純水設(shè)備解讀;半導(dǎo)體研磨廢水的處理方法及分類(lèi)
【上海水處理設(shè)備網(wǎng)americau.cn】近年來(lái),隨著科學(xué)技術(shù)的不斷進(jìn)步和人民需求的不斷增加,我國(guó)半導(dǎo)體消費(fèi)行業(yè)發(fā)展迅速,然而也有少量半導(dǎo)體廢水排放。那么下面就來(lái)說(shuō)說(shuō)半導(dǎo)體研磨廢水的處理方法。 在集成電路封裝的制造過(guò)程中,會(huì)對(duì)晶圓進(jìn)行切割和研磨,并用超純水清洗,因此會(huì)產(chǎn)生少量的切割和研磨廢水。目前國(guó)內(nèi)很多廠家采用混凝沉淀和濾袋過(guò)濾的方法,嘉興GMP純水設(shè)備出水達(dá)到污水綜合處理排放標(biāo)準(zhǔn)。 一種半導(dǎo)體研磨廢水的處理方法及純水設(shè)備,其特征在于,包括以下步驟: (1)通過(guò)廢水收集箱收集硅片研磨產(chǎn)生的廢水; (2)用水泵將廢水泵入多介質(zhì)過(guò)濾器進(jìn)行初步過(guò)濾; (3)將一次過(guò)濾后的水送入保安過(guò)濾器進(jìn)行二次過(guò)濾,保安過(guò)濾器用于屏蔽超濾膜; (4)將第二次過(guò)濾后的水送入超濾膜過(guò)濾裝置進(jìn)行第三次過(guò)濾; (SDI計(jì)或濁度計(jì)用于測(cè)量和確定第三次過(guò)濾的水是否能滿(mǎn)足第一次設(shè)定的規(guī)格要求,如果滿(mǎn)足規(guī)格要求,則送至生產(chǎn)水箱;
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